一、技术原理与核心参数

加热防腐型旋转涂覆仪采用聚四氟乙烯腔体，外观美观坚固，具有优良的化学稳定性和极强的耐腐蚀性，能够用于各种需要抗酸碱和有机溶剂的场合。仪器采用先进的精密电机，转速能达到 12000 转/分，有效的保障了成膜的均匀性。除了基本的旋涂功能，本品还配有加热组件，可以加热到 200℃，由智能温控表控温，温度测定准确，升温过程完全可控。另外本仪器采用触控屏控制，可以预设匀胶曲线，大大简化了使用过程降低了学习成本，十分适合实验室选购。

二、关键性能参数

三，应用领域

‌光电子学领域‌：用于制备太阳能电池、有机发光二极管（OLED）、有机太阳能电池（OPV）等器件的薄膜涂层‌；

‌半导体与微电子制造‌：适用于光刻胶旋涂、晶圆表面涂布等工艺，支持最大12英寸晶圆处理‌；

‌材料科学‌：可制备金属、半导体、氧化物及聚合物等材料的均匀薄膜，尤其适合需要抗酸碱和有机溶剂的实验环境‌；

‌生物医学领域‌：用于生物传感器、生物芯片的涂层制备，聚四氟乙烯腔体设计确保化学稳定性与耐腐蚀性‌；

‌纳米科技‌：支持纳米材料与纳米薄膜的制备，高精度控温（室温-200℃）和转速调节（10-12000转/分钟）保障工艺稳定性‌。

四、基础操作流程

‌A安装与准备‌

‌连接设备‌

连接真空泵气管与电源线，确保螺帽拧紧‌。

插入设备电源线并打开总开关‌。

‌安装吸盘与片托‌

根据样品尺寸选择吸盘，对准槽口安装并固定螺丝‌。

将片托凹槽对准电机轴顶丝垂直放置‌。

B参数设置‌

‌选择匀胶方案‌

进入操作界面，选择预设方案（如5段式参数）或自定义参数‌。

‌设置转速、时间与加速度‌

示例：第一段速度2000转/分钟，时间20秒，加速度2000‌1。

分段设置（如第二段3500转/分钟，第三段10000转/分钟）‌。

‌温度控制（如需加热）‌

设置温度范围（0-200℃），支持手动或自动加热模式‌。

C旋涂操作‌

‌放置样品‌

将基片居中放置于片托，启动真空泵吸附固定‌。

‌启动匀胶‌

转速稳定后注入胶液，程序自动分段执行‌。

‌完成与清洁‌

等待转速归零，关闭真空泵并取出样品‌。

定期清洁抽气孔（滴酒精维护）‌。

D注意事项‌

‌防腐设计‌：聚四氟乙烯腔体可耐酸碱腐蚀，避免接触强氧化剂‌。

‌安全防护‌：加热模块高温，操作时勿触碰‌。

五、合规性要求（核心标准）

六、仪器特点

‌1. 防腐设计‌

腔体材质采用‌聚四氟乙烯（PTFE）‌或‌聚丙烯（PP）‌，抗强酸、强碱及有机溶剂腐蚀‌。

部分机型配备‌防溅废料罐‌和‌排液管‌，防止腐蚀性液体污染环境‌。

‌2. 加热与温控功能‌

加热范围覆盖‌室温至200℃‌，控温精度±1-2℃，适用于高温工艺（如光刻胶烘烤）‌。

支持‌分段控温‌，部分机型集成‌抽废气功能‌，确保工艺稳定性‌。

‌3. 高精度匀胶性能‌

转速范围‌10-20000转/分钟‌，电机采用无刷伺服或德国进口电机，保障薄膜均匀性（厚度误差±1%）‌。

部分机型支持‌正反转旋涂‌和‌分段编程‌，优化复杂工艺需求‌。

‌4. 智能化操作‌

配备‌触摸屏控制‌、蓝牙通信及PC端远程控制软件，支持配方存储与掉电保护‌。

实时显示‌转速曲线‌、吸附力及报警功能（如进胶保护、吸附不足互锁）‌。

‌5. 安全与兼容性‌

透明耐腐蚀盖板（丙烯酸材质）隔绝有毒气体，部分机型适配手套箱使用‌。

适配半导体、光电子等领域‌。

七，配置清单

主机1台；

测试软件1套；

说明书1份;

合格证1份;

保修卡1份;

签收单1份;

铭牌1块;

电源线1根;

扳手1套;

宣传册若干;